掩膜版作為微納加工技術中光刻工藝所使用的圖形母版,在IC、平版顯示器、印刷電路版、微機電系統等領域具有廣泛的應用。隨著信息技術和智能制造的快速發展,特別是智能手機、平板電腦、車載電子等市場的快速增長,光掩膜版的市場需求也在快速增長。
掩膜版逆周期屬性可熨平半導體周期,保持賽道平穩增長。大部分半導體材料需求周期緊跟晶圓廠稼動率周期,因此在半導體需求下行周期時,半導體材料普遍出現量價齊跌狀態。掩膜版作為光刻環節非耗材產品,主要掛鉤下游新產品開發需求,而非產品需求。
當晶圓廠需求低迷時,空出的產能促進新芯片設定方案的加速,芯片設計公司將通過設計新產品刺激市場,提升銷量,進而帶來對掩膜版的增量需求。
面板產業鏈向國內轉移,帶動相關掩膜版材料保持高增。130nm及以下半導體掩膜版國產化處于起步期,市場空間廣闊。建議關注:路維光電、清溢光電等。
5G技術的逐步成熟和商用,也為光掩膜版市場帶來了新的機遇。
根據中研普華研究院撰寫的《2023-2028年中國掩膜版行業發展趨勢及投資預測報告》顯示:
掩膜版行業發展機遇與趨勢
掩膜版,也稱為光掩膜基版或光罩,是微電子制造過程中的圖形轉移工具或母版,是承載圖形設計和工藝技術等知識產權信息的載體。在光刻過程中,掩膜版起到設計圖形的載體作用。通過光刻工藝,掩膜版上的設計圖形被轉移到光刻膠上,然后經過刻蝕,將圖形刻到襯底上,從而實現圖形到硅片的轉移。掩膜版是光刻過程中的關鍵部件,其性能的好壞直接影響光刻的效果。
掩膜版的構造材質根據需求不同而有所選擇,但目前主流是使用具有低熱膨脹系數、低鈉含量、高化學穩定性及高光穿透性等特質的石英玻璃。在其上鍍有約100nm的不透光鉻膜作為工作層,并鍍有約20nm的氧化鉻來減少光反射,增加工藝的穩定性。
隨著面板產業鏈向國內轉移,相關掩膜版材料的市場需求也保持高增長。尤其是130nm及以下半導體掩膜版國產化處于起步期,市場空間廣闊。
近年來,掩膜版行業在技術上取得了顯著的進步。國產掩膜版已突破多項關鍵核心技術,包括掩膜版制造和光阻涂布等部分技術,打破了國外廠商在上述產品和技術領域的長期壟斷。這些技術突破不僅提高了掩膜版的質量和性能,也降低了生產成本,增強了國內掩膜版企業的競爭力。
未來,掩膜版行業將繼續朝著高質量、高性能、高附加值的方向發展。隨著下游行業的快速發展和市場規模的不斷增長,掩膜版行業將迎來更為廣闊的市場空間。同時,隨著技術的進步和市場競爭的加劇,掩膜版企業需要不斷提高自身的技術水平和創新能力,以適應不斷變化的市場需求。
清溢光電作為國內成立最早、規模最大的掩膜版生產企業之一,通過確立“平板顯示掩膜版+半導體芯片掩膜版”互促共進的“雙翼”發展戰略,持續加大研發投入,積累了豐厚的客戶資源。隨著國內平板顯示和半導體產業快速發展,公司不斷增加產能,聚焦中高端掩膜版的技術積累和產能布局的升級調整。
高精度掩模版是生產AMOLED/LTPS及高分辨率TFT-LCD顯示屏的關鍵要素。在國內平板顯示行業迅速發展的背景下,中高端顯示屏產品也帶動了高精度、高價值量面板掩模版需求。目前,清溢光電合肥工廠聚焦于提升中高端平板顯示掩模版的技術和產能,成功開發6代AMOLED中高精度掩模版,打破國外壟斷,進一步縮小與海外競爭對手的差距。
掩膜版行業是一個高度全球化的行業,國際間的合作與交流對于推動行業的發展具有重要意義。國內掩膜版企業需要積極參與國際市場競爭,學習借鑒國際先進技術和管理經驗,提高自身的國際競爭力。
技術創新將成為推動掩膜版行業發展的核心動力。隨著半導體技術、微納加工技術的不斷進步,掩膜版的精度、穩定性、使用壽命等性能要求也在不斷提高。因此,掩膜版企業需要加大研發投入,推動技術創新,提高產品的技術含量和附加值。
市場需求將驅動掩膜版行業的快速發展。隨著智能手機、平板電腦、汽車電子等消費電子產品市場的持續增長,以及5G、物聯網、人工智能等新興領域的快速發展,對掩膜版的需求將不斷增加。同時,新興應用領域如柔性顯示、可穿戴設備等也將為掩膜版行業帶來新的增長點。
隨著市場競爭的加劇,掩膜版企業需要不斷提升自身的競爭力,通過技術創新、產品升級、市場拓展等手段,提高市場份額和盈利能力。同時,行業內的兼并重組也將成為趨勢,通過整合優勢資源,提高產業集中度,推動行業的健康發展。
在激烈的市場競爭中,企業及投資者能否做出適時有效的市場決策是制勝的關鍵。中研網撰寫的掩膜版行業報告對中國掩膜版行業的發展現狀、競爭格局及市場供需形勢進行了具體分析,并從行業的政策環境、經濟環境、社會環境及技術環境等方面分析行業面臨的機遇及挑戰。同時揭示了市場潛在需求與潛在機會,為戰略投資者選擇恰當的投資時機和公司領導層做戰略規劃提供準確的市場情報信息及科學的決策依據,同時對政府部門也具有極大的參考價值。
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