濺射靶材行業發展現狀：增長強勁

一、濺射靶材行業簡介

濺射靶材是指一種用濺射沉積或薄膜沉積技術制造薄膜的材料。濺射是制備薄膜材料的主要技術之一，它利用離子源產生的離子，在真空中經過加速聚集，而形成高速度能的離子束流，轟擊固體表面，離子和固體表面原子發生動能交換，使固體表面的原子離開固體并沉積在基底表面，被轟擊的固體是制備濺射法沉積薄膜的原材料。濺射靶材主要應用于電子及信息產業，如集成電路、信息存儲、液晶顯示屏、激光存儲器、電子控制器件等；亦可應用于玻璃鍍膜領域；還可以應用于耐磨材料、高溫耐蝕、高檔裝飾用品等行業。

二、濺射靶材的分類

濺射靶材種類多樣，下游應用廣泛。從分類上來看，濺射靶材主要按形狀、化學成分、應用領域這三個標準分類。形狀分類中，主要分為長靶、方靶、圓靶。在化學成分分類中，主要分為金屬靶材、合金靶材、陶瓷化合物靶材；在應用領域分類中，主要分為半導體芯片靶材、平面顯示器靶材、太陽能電池靶材、信息存儲靶材、工具改性靶材、電子器件靶材等。

三、濺射靶材行業產業鏈

濺射靶材產業鏈上游主要以原材料和生產設備為主，其中原材料包括金屬、合金、陶瓷等原材料，金屬原材料包括銅、鋁、鉻、鎳、鉭等，合金原材料包括鎳鉻合金、鎳鈷合金、鎳鉑合金、鎢鈦合金、鐵鈷合金等，陶瓷原材料包括ITO、二氧化硅、氧化硅、氧化鋅、氧化鈦等。設備包括提純設備、噴涂設備和濺射機臺；濺射靶材中游主要為靶材生產制造環節；濺射靶材下游應用于半導體、平板顯示、光伏、信息存儲、光學應用等領域。

四、中國濺射靶材行業發展現狀

濺射靶材是一種用于制造薄膜材料的重要材料，對電子與信息產業有著重要的作用。我國濺射靶材行業起步晚，長期依賴進口，在國家相關政策支持下，濺射靶材快速發展，國產化速度加快。在20世紀80年代初，我國開始引入濺射鍍膜技術，應用于相關玻璃制品中。20世紀90年代，我國開始研究濺射靶材的國產化技術。在21世紀初，我國濺射靶材產業進入快速發展階段，行業內優秀企業增多。在2005年，第一塊國產半導體工業應用濺射靶材在江豐電子的生產線上誕生，填補了國內濺射靶材工藝的空白。由于我國濺射靶材長期依賴進口，國家出臺相應政策支持濺射靶材國產化。在2020年，我國工程院院士材料學專家何季麟帶領團隊成功研制出高性能ITO濺射靶材，實現了高端ITO靶材從0到1的突破。同年重慶大學劉慶教授團隊研制超高純金屬靶材項目，讓我國芯片擁有高端靶材。核心技術的突破加快我國濺射靶材行業發展，促進我國成為全球濺射靶材市場的重要力量。

隨著濺射靶材和下游產業應用本土化程度的提高，中國在全球濺射靶材行業的地位日益突出，為國內濺射靶材行業帶來了更加廣闊的市場發展空間。其中，高性能濺射靶材市場更是呈現出強勁的增長勢頭，市場規模不斷擴大，年均復合增長率顯著。數據顯示，2022年，我國濺射靶材行業市場規模為305.4億元。

圖表：2018-2022年中國濺射靶材行業市場規模

從市場份額來看，濺射靶材行業被幾家跨國大型企業所壟斷，如霍尼韋爾、東曹和普萊克斯等外國廠商。這些企業在技術、品牌和市場渠道等方面具有明顯優勢，占據了行業的主導地位。然而，隨著國內政策的引導和各大企業逐步加大研發投入，國產化率也在不斷提高，以江豐電子、阿石創等企業為首的國內廠商快速發展，市場份額逐漸提升。

五、濺射靶材行業發展潛力

隨著科技的不斷進步和應用領域的持續拓展，濺射靶材的需求將持續增長，市場規模有望進一步擴大。其次，行業競爭將更加激烈，國內外企業將加大研發投入，提升技術水平和產品品質，以在市場中占據更有利地位。此外，隨著新能源、半導體等產業的快速發展，濺射靶材的應用領域將進一步拓寬，為行業發展提供更多機遇。同時，政策支持和行業標準的不斷完善也將為濺射靶材行業的健康發展提供有力保障。

《2023-2028年中國半導體靶材市場發展現狀調查及供需格局分析預測報告》由中研普華產業研究院撰寫，本報告對該行業的供需狀況、發展現狀、行業發展變化等進行了分析，重點分析了行業的發展現狀、如何面對行業的發展挑戰、行業的發展建議、行業競爭力，以及行業的投資分析和趨勢預測等等。報告還綜合了行業的整體發展動態，對行業在產品方面提供了參考建議和具體解決辦法。