濺射靶材行業未來發展前景及濺射靶材應用市場結構分析

濺射靶材主要用于制備薄膜材料，是濺射鍍膜技術中的關鍵組成部分。半導體芯片行業是金屬濺射靶材的主要應用領域之一，也是對靶材的成分、組織和性能要求最高的領域。具體來講，半導體芯片的制作過程可分為硅片制造、晶圓制造和芯片封裝等三大環節，其中，在晶圓制造和芯片封裝這兩個環節中都需要用到金屬濺射靶材。

濺射靶材與芯片的關系

濺射靶材與芯片之間存在密切的關系。濺射靶材是磁控濺射沉積薄膜的材料源，它在芯片制造過程中起著至關重要的作用。

首先，濺射靶材用于制備半導體芯片中的金屬薄膜。在磁控濺射過程中，高速離子流轟擊不同種類的金屬濺射靶材的表面，使靶材表面的原子或分子一層一層地沉積在半導體芯片的表面上。這些沉積的原子或分子隨后形成金屬薄膜，它們被進一步加工成納米級別的金屬線，連接芯片內部數以億計的微型晶體管，從而起到傳遞信號的作用。

其次，濺射靶材的應用貫穿了半導體芯片的多個制造環節。在晶圓制造環節，濺射靶材主要用于制作晶圓導電層、阻擋層以及金屬柵極，對靶材的純度要求極高，通常使用銅、鋁、鈦、鉭等金屬靶材。在芯片封裝環節，濺射靶材則主要用于貼片焊線的鍍膜，以確保芯片與外部電路的連接穩定性。

此外，不同的濺射靶材具有不同的物理和化學性質，它們的選擇和使用直接影響芯片的性能和穩定性。例如，硅靶材常用于制備絕緣層，鋁靶材用于制備導電層，而鈦靶材和鎢靶材則常用于制備屏障層。這些金屬薄膜的厚度、均勻性和純度都是決定芯片性能的關鍵因素。

濺射靶材應用市場結構

濺射靶材主要應用于超大規模集成電路芯片、液晶面板、薄膜太陽能電池制造的物理氣相沉積(PVD)工藝，用于制備電子薄膜材料靶材市場最大的下游應用是包括半導體、液晶面板等在內的電子行業。其中濺射靶材在半導體領域的占比高達45%。

據中研普華產業院研究報告《2023-2028年國內半導體靶材行業發展趨勢及發展策略研究報告》分析

高純濺射靶材是伴隨著半導體工業的發展而興起的，集成電路產業成為目前高純濺射靶材的主要應用領域之一。隨著信息技術的飛速發展，要求集成電路的越來越高，電路中單元器件尺寸不斷縮小，元件尺寸由毫米級到微米級，再到納米級。每個單元器件內部由襯底、絕緣層、介質層、導體層及保護層等組成，其中，介質層、導體層甚至保護層都要用到濺射鍍膜工藝，因此濺射靶材是制備集成電路的核心材料之一。集成電路領域的鍍膜用靶材主要包括鋁靶、鈦靶、銅靶、鉭靶、鎢鈦靶等，要求靶材純度很高，一般在5N(99.999%)以上。因此半導體鍍膜用靶材價格昂貴。半導體靶材主要在晶圓制造和封裝測試過程中使用。

未來濺射靶材行業發展前景

據SEMI統計，濺射靶材市場約占晶圓制造材料的2.6%，約占封裝材料的2.7%。全球半導體靶材市場規模與全球半導體材料市場規模變化趨勢相近。預計未來幾年半導體靶材市場整體穩定，仍將保持中速增長。中國半導體靶材市場相較全球市場增速更為明顯，處于較快發展階段。國內集成電路產業一直受制于人，每年大量從海外進口，進口金額居所有進口商品中第一位，超過市場上熟知的原油和鐵礦石等資源品。近年來，中興制裁事件與華為事件都給我們敲響警鐘，芯片等核心技術產業亟需發展，國產替代刻不容緩。作為半導體材料中的重要一環—濺射靶材同樣如此，國產化是必然之路也是唯一之路。

更多關于行業的市場數據及未來投資前景規劃，可以點擊查看中研普華產業院研究報告《2023-2028年國內半導體靶材行業發展趨勢及發展策略研究報告》。