由于我國靶材產業起步時間較晚,且受到技術、資金和人才等多方面因素的限制,現階段本土企業與國外先進企業生產技術水平仍相差較大。全球靶材市場長期呈現出寡頭競爭格局,CR4市場份額高達80%,日美企業更是在高端靶材領域優勢明顯。
如今,國產化靶材研究正不斷突破國外技術壁壘,當前部分關鍵技術指標已達國際先進水平。一些國產廠商已開始在市場上占據起一定份額,并逐步在細分產品或領域擠占國際廠商的市場空間。
國內企業雖然處于國產替代初期,但頭部廠商成長迅速,如江豐電子、隆華科技、阿石創、有研新材等公司掌握了濺射靶材生產的核心技術,國產鋁、銅、鉬等靶材逐漸嶄露頭角,填補了國內在濺射靶材領域的空白,在下游各領域打開了一定市場。
目前,全球濺射靶材市場主要有四家企業,分別是JX日礦金屬、霍尼韋爾、東曹和普萊克斯,市場份額分別為30%、20%、20%和10%,合計壟斷了全球80%的市場份額。其中美日跨國集團產業鏈完整,囊括金屬提純、靶材制造、濺射鍍膜和終端應用各個環節,具備規模化生產能力,在掌握先進技術以后實施壟斷和封鎖,主導著技術革新和產業發展,在中高端半導體濺射靶材領域優勢明顯。
而高端品質靶材主要由:日本,德國和美國生產,我國靶材產業起步較晚,在產品質量與精細標準上與國外有不少的差距,國內也對靶材也積極投入了大量鉆研與開發,經過這幾年的發展涌現出了一批在靶材行業優秀的公司,未來有望推動靶材行業國產化發展。
據中研普華產業院研究報告《2023-2028年國內半導體靶材行業發展趨勢及發展策略研究報告》分析
近些年,隨著全球半導體集成電路產業的快速發展,行業下游應用需求持續旺盛,全球靶材行業市場規模不斷擴大,預計到2025年,全球市場規模將有望達到333億美元,發展空間廣闊。
從應用場景來看,濺射靶材主要應用于半導體芯片、平面顯示器、太陽能電池、信息存儲、工具改性、電子器件等領域。其中半導體芯片、平板顯示器和光伏電池領域對于靶材純度、穩定性要求非常高,主要采用高純靶材。半導體芯片對靶材的要求最高,一般要求靶材純度在99.9995%(5N5)以上,平板顯示器要求靶材純度一般在99.999%(5N)級別,光伏電池要求靶材純度一般在99.99%(4N)以上。
江豐電子:
市場地位:江豐電子是國內半導體靶材行業的領軍企業,靶材業務占比超過90%。
技術創新:公司掌握了高純金屬及濺射靶材生產中的核心技術,形成了包括晶粒晶向控制、材料焊接、精密加工等在內的完整業務流程。其最高制程鉭靶材及環件已成功應用于臺積電7nm和5nm制程,顯示了其技術實力。
市場份額:江豐電子的產品已應用到多家國內外知名半導體企業,市場占有率逐年增長。公司實行“以銷定產”模式,產銷量持續增長。
有研新材:
技術研發:有研新材在半導體靶材領域也有顯著的技術研發實力,不斷推出適應市場需求的新產品。
市場應用:其靶材產品廣泛應用于多個半導體制造環節,得到了市場的廣泛認可。
發展策略:公司注重技術創新和市場拓展,努力提升在半導體靶材行業的地位。
國外企業:
國際競爭:如日礦金屬、霍尼韋爾等國際知名企業在全球半導體靶材市場中占據重要地位,他們憑借先進的技術和大規模生產優勢,在全球市場中保持領先地位。
技術優勢:這些企業在靶材純度、均勻性、穩定性等方面具有明顯的技術優勢,能夠滿足高端半導體制造的需求。
市場策略:他們通過不斷的技術創新和市場拓展,鞏固和擴大在全球市場的份額。
綜上所述,國內半導體靶材行業重點企業在技術創新、市場應用和發展策略等方面各有特色。江豐電子和有研新材作為國內領先企業,在技術研發和市場拓展方面取得了顯著成績。然而,與國際知名企業相比,國內企業在技術水平和市場份額方面仍有提升空間。未來,隨著半導體產業的快速發展,這些企業將繼續加大研發投入,提升產品質量和技術水平,以應對激烈的市場競爭。
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