光刻膠是國際上技術門檻最高的微電子化學品之一,在大規模集成電路的制造過程中,光刻和刻蝕技術是精細線路圖形加工中最重要的工藝,占芯片制造時間的40%~50%,光刻膠是光刻工藝得以實現選擇性刻蝕的關鍵材料。
光刻膠的應用范圍主要有PCB板,LCD,LED和半導體,前面三種技術要求相對較低,但我國企業仍然沒有實現完全自給。而半導體光刻膠技術壁壘較高、市場高度集中,幾乎被日美企業壟斷,生產商主要有日本JSR、信越化學工業、日本TOK、陶氏化學等。
國產光刻膠通過量產驗證
據“中國光谷”消息,光谷企業近日在半導體專用光刻膠領域實現重大突破:武漢太紫微光電科技有限公司推出的T150 A光刻膠產品,已通過半導體工藝量產驗證,實現配方全自主設計,有望開創國內半導體光刻制造新局面。
該產品對標國際頭部企業主流KrF光刻膠系列。相較于國外同系列產品,T150 A在光刻工藝中表現出的極限分辨率達到120nm,且工藝寬容度更大,穩定性更高。
光刻膠是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射,其溶解度發生變化的耐蝕劑刻薄膜材料,主要由感光樹脂、增感劑和溶劑3種材料組成的對光敏感的混合液體,可在光刻工藝過程中用作抗腐蝕涂層材料,是光刻工藝最重要的耗材,對光刻精度至關重要,光刻膠被稱為半導體材料皇冠上的明珠,是半導體產業最關鍵的材料。
光刻膠所在產業鏈覆蓋范圍十分廣泛,從上游基礎化工材料行業、精細化學品行業到中游光刻膠制備,到下游PCB、面板、半導體產業,再到電子等應用終端。光刻膠作為微電子領域微細圖形加工核心上游材料,占據電子材料至高點。
中國光刻膠行業市場現狀及前景分析
近年來,隨著人工智能、大數據、云計算、物聯網、汽車電子等應用領域的快速發展,半導體行業逐漸恢復增長,并成為全球科技競爭的重要戰場。從全球范圍來看,在經歷了一輪去庫存周期后,全球半導體市場呈現出持續復蘇態勢。
2024年7月全球半導體銷售額同比增長18.7%,連續9個月實現同比增長,環比增長2.7%;根據WSTS的預測,上調預測2024年全球半導體市場銷售額同比增長16%,預計2025年將同比增長12.5%。
隨著全球半導體制程向著更先進、更精細化方向發展,驅動了半導體制造對光刻膠的需求增長。
據中研產業研究院《2024-2029年中國光刻膠行業深度分析與投資前景分析報告》分析:
我國光刻膠的研究始于20世紀70年代,最初階段與國際水平相差無幾,幾乎和日本同時起步,但由于種種原因,差距愈來愈大。近年來隨著半導體市場在我國迅速發展,光刻膠及其配套試劑在中國市場上呈快速增長的態勢。
根據SEMI數據,2022年全球半導體光刻膠市場規模為26.4億美元,同比增長6.82%;大陸半導體光刻膠市場規模為5.93億美元,同比增長20.47%,增速遠高于全球半導體光刻膠市場。
我國半導體產業、面板產業和PCB產業主要集中在長三角、珠三角和環渤海地區和成渝鄂地區發展,其中面板產業和PCB產業的產業集群已經初步形成,半導體產業集群化分布進一步顯現,已初步形成以長三角、環渤海、珠三角三大核心區域聚集發展的產業空間格局。
我國光刻膠生產及研發企業也主要圍繞這些產業的區域發展而布局,目前光刻膠生產及研發企業也主要集中在長三角、珠三角地區。
受益于國家紅利政策的扶持,中國本土光刻膠制造商積極提升光刻膠產品技術水平和研發能力,推進光刻膠國產化的進程。未來,中國有望突破高端光刻膠產品的技術壁壘,帶動中國光刻膠產量進一步提升。在國家一系列紅利政策帶動下,國內半導體、平板顯示及PCB行業發展勢頭良好,我國光刻膠產量呈現穩中有升態勢。
與此同時,全球半導體產業、平板顯示器、PCB行業逐漸向中國轉移,帶動中國光刻膠的需求激增,中國光刻膠行業擁有較大發展空間。
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